完滿收官丨清溢微SEMICON China 2025 精彩回顧
2025-04-09 09:42
2025年3月26日至28日，以"跨界全球?心芯相聯"為主題，備受矚目的SEMICON China 2025在上海新國際博覽中心圓滿落幕！作為全球半導體行業(yè)最具影響力的盛會之一，本屆展會展覽面積達10萬平方米，吸引了全球1400多家知名企業(yè)參展，參展人數預估超過15萬人次。展會涵蓋芯片設計、晶圓制造、封裝測試、EDA/IP、半導體設備及材料等全產業(yè)鏈。深圳清溢微電子有限公司（以下簡稱“清溢微”）作為中國獨立第三方掩膜專家亮相此次SEMI CHINA展會，與行業(yè)伙伴深入交流，共探發(fā)展機遇，充分展現了其在半導體材料行業(yè)中的創(chuàng)新實力和技術底蘊。
圖一：SEMICON China 2025展會現場
在為期三天的行業(yè)盛會中，清溢微的展臺現場氛圍非常熱烈，咨詢聲、討論聲相互交織、連續(xù)不斷。本次SEMI CHINA展會，清溢微以其深厚的技術積累和持續(xù)創(chuàng)新的成果，吸引了眾多行業(yè)專業(yè)人士的關注。國內外半導體行業(yè)的企業(yè)家、協會領導、技術專家、高校學者及供應鏈專家紛紛在清溢微展臺前駐足，給業(yè)界留下了深刻印象。
圖二：清溢集團參展人員合照
此次清溢微展位上，集中展出了多款掩膜版產品，其中包括六英寸130nm Binary Mask ,130nm PSM Mask ,150nm Mask等多倍版（4:1/5:1）廣泛使用于Fab/IDM 6寸，8寸以及12寸晶圓線的掩膜版產品，以及14英寸，9英寸，7英寸廣泛使用于先進封裝線的掩膜版產品。
圖三清溢微參展接待團隊合照
清溢微的業(yè)務和技術人員全程以飽滿的熱情接待各方來客，細致解答各類問題，與各方深入探討合作機遇與技術革新方向。
圖四：海外客戶蒞臨展會洽談業(yè)務
展會期間，清溢微還接受了各地行業(yè)協會、投資者、半導體產業(yè)聯盟以及國內外媒體的參觀和采訪。
圖五：清溢微在展會接待各方客戶
半導體掩膜版是芯片制造的關鍵工具，用于半導體制造的光刻環(huán)節(jié)，對晶圓光刻的質量有重要影響。作為光刻復制圖形的基準和藍本，掩膜版是連接芯片設計和芯片制造的關鍵，掩膜版的精度和質量水平會直接影響最終下游制品的良品率。以晶圓制造為例，其制造過程需要經過多次曝光工藝，利用掩膜版的曝光掩蔽作用，在半導體晶圓表面形成柵極、源漏極、摻雜窗口、電極接觸孔等結構。清溢微作為國內真正的獨立第三方掩膜版公司，始終堅持同廣大Fab廠及IDM公司合作共贏理念，一起讓科技為人類造福。
在SEMICON China 2025展會上,清溢微充分展示了在掩膜版領域的技術實力與創(chuàng)新精神，進一步提升了公司的品牌知名度與行業(yè)影響力。我們將把展會上收集到的寶貴建議與合作機遇轉化為實際行動，持續(xù)加大研發(fā)投入，不斷優(yōu)化產品與服務，為推動半導體產業(yè)的發(fā)展貢獻力量。
展望來年，清溢微將緊跟中國半導體行業(yè)發(fā)展步伐，圍繞中高端半導體芯片制造領域，持續(xù)加大研發(fā)投入和投資。佛山建設180nm~28nm高端掩膜版生產基地預計將在2025年底投產，屆時清溢微將憑借高節(jié)點掩膜版產品勇攀行業(yè)高峰，助力科技發(fā)展。
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